Осаждение пленки на поверхность из произвольного материала за счет химических реакций, происходящих в газовой фазе в приповерхностной области, известно как осаждение из паровой фазы или пароосаждение.
Обычно поверхность является более нагретым телом, чем окружающее пространство; это обеспечивает возможность протекания гетерогенных реакций на поверхности. С другой стороны, в газовой фазе могут протекать и гомогенные реакции. Иногда используются и другие способы активизации химических процессов, в том числе тлеющий разряд или ультрафиолетовое облучение.
Для проведения процессов часто требуется более сложная аппаратура, чем для электрохимического осаждения или химического восстановления, включающая газовые насосы или вакуумные системы, печи для пиролитических процессов, иногда с быстрым прогревом до очень высоких температур (например при разложении толуола или бензола для получения углеродных пленок требуется температура 2000°С). Такие температуры часто ограничивают возможность использования определенных материалов в качестве подложек.
