Оксид вольфрама (VI) мгновенно возгоняется в вакууме, с образованием тонких пленок

Оксид вольфрама (VI) мгновенно возгоняется в вакууме, с образованием тонких пленок. Пленки, используемые в этом исследовании были получены испарением в вакууме WO₃ аналитической марки (99,99 %) из раскаленной электрическим током танталовой лодочки на химически и ультраакустически очищенную кварцевую подложку при давлении 10^-5 торр. Температура подложки поддерживалась в пределах 75°C. Скорость осаждения, как было проверено кварцевым резонатором, составляла ~ 10 Å/сек. Абсолютная толщина пленки была измерена с точностью + 5 % методом многократного интерферометрического луча, используя экспериментальную установку, описанную Scott, McLauchlau & Sennet (1950). Знание абсолютной толщины и веса этого образца позволило сделать оценку плотности пленок, которая составила 6,5 г/см³ по сравнению с плотностью 7,3 г/см³ для кристаллического образца WO₃. Поэтому, пленки имеют существенную пористость вследствие наличия значительной дефектности структуры. Ультрафиолетовый эмиссионный анализ пленок показал присутствие следующих примесей: Cu, Ag, Мг и Si в пределах нескольких миллионных долей.